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Package기술

Back Lap
[후공정설비]

Back Lap

공정소개

Back Lap 공정은 웨이퍼 후면을 연마하여 목표 두께까지 가공하는 공정입니다. 반도체 패키지의 박형화와 열 방출 특성 향상에 중요한 역할을 수행하며, 고집적 반도체 생산에 필수적인 공정으로 활용됩니다.

작업정보
작업소개

Back Lap 설비는 웨이퍼를 미세 단위로 연마하는 고정밀 공정 특성상 연마 휠 상태와 설비 정밀도가 제품 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 연마 장비의 오염이나 마모가 발생할 경우 두께 편차와 웨이퍼 손상이 발생할 수 있어 예방보전을 통해 안정적인 가공 품질을 유지하고 있습니다.

작업내용
  • 연마 휠 및 패드의 마모 상태를 점검하여 안정적인 연마 성능을 유지.
  • 슬러리 및 냉각수 공급 상태를 점검하여 균일한 가공 환경을 확보.
  • 웨이퍼 두께 편차와 가공 정밀도를 점검하여 품질 기준을 유지.
  • 설비 내부 오염물과 슬러리 잔여물을 제거하여 청정 상태를 유지.
  • 주요 구동부와 이송 장치의 마모 상태를 점검하고 윤활 작업을 수행.
  • 센서 및 제어 계통 상태를 점검하여 설비 이상을 예방.
작업효과
  • 웨이퍼 두께 균일도를 향상시켜 제품 품질을 안정적으로 유지.
  • 연마 불량 및 웨이퍼 손상을 최소화.
  • 안정적인 가공 정밀도 확보로 공정 신뢰성을 향상.
  • 설비 이상 발생을 예방하여 생산 안정성을 확보.
  • 고품질 반도체 생산과 수율 향상에 기여.